“……”
其實許多人，包括苗為不明白方年為什么會如此極力堅持EUV。
畢竟理論上DUV可以支持到7納米光刻。
現在全世界最先進制程的是英特爾，才搞定22納米。
距離7納米看起來是很遙遠的。
而且到這一步，為了防止原子漏跑等，簡稱漏電，現在國際先進制程已經在考慮FinFET工藝。
這就開始出現方年所說的技術瓶頸。
按照國際半導體技術藍圖定義技術節點是最小金屬間距(MMP)的一半來算，MMP減少開始變緩；
偏偏3D化后，晶體管數量依舊激增，這樣就顯示不出工藝進步了。
于是……
下一代工藝命名就按照了早期二維晶體管形式的長寬各縮短0.7，則面積縮小一半(0.7×0.7＝0.5)這樣的一個形式來簡化計算。
什么叫簡化計算……
即，20×0.7＝14。
再然后是14→10→7→5→3。
那么實際上MMP減少了多少呢？
以臺積電為例，從10納米到7納米，MMP從44納米降到了40納米。
只有堅守摩爾定律的英特爾死活在14nm+、++、+++上停滯不前。
英特爾甚至想說一句：不標準的命名規則都特么是耍流氓。
這也是從終端用戶角度上，更先進制程的突破，體驗感并未成倍數突破的原因。
甚至可以說，英特爾的14nm+++≈廣泛意義上的7nm。
因為兩者每平方毫米晶體管數量基本相等。
綜上……
方年之所以毫不猶豫allinEUV。
是因為這特么眨巴眼的功夫，就必須要用到EUV了。
在方年重生之前，別說瓦森納、禁運這些，就唯一可以生產EUV的A**L手頭上握著起碼能排到五年后的訂單。
原因十分簡單：產不出來。
方年既然有理想有抱負，怎么可能在這里不來一手準備？
現在開始allinEUV，起碼五年十年后，梼杌是能搞出來點東西的。
EUV(極紫外)的光源波長直接就從193納米跳到了10~14納米之間的，目前研究資料表明波長是可用性最高的。
這樣一來，在尖端光刻領域，就有了話語權。
稍頓，苗為沉吟著道：“DUV光刻的進展這么順利，前沿有無量產計劃？”
“暫時沒有，到28納米再說。”方年平靜道，“我想應該有人會主動給我們送這中間的成套設備。”
苗為一下就懂了，忍不住伸手虛點了方年兩下：“你小子，難怪馬珀利跟雷軍都公開吹捧說你是最成功的商人，沒有之一云云，你簡直就是個商業奇才！”
接著又含蓄的提了句：“大基金的事情快提上議程了。”
“……”
方年笑笑，沒接話茬，再次直接轉移了話題：“月底之前，勝遇實驗室的4G組網方案可基本實用；
勝遇實驗室在西沙完成了雙4G組網實測，成果還不錯。”
聞言，苗為眼瞼輕動，臉上微有笑意，順著話頭說下去：“說起來，你怎么會自己跑到海南去？”
“啊？”方年面露遲疑。
苗為笑了笑：“你個人承接宣德七連嶼跨海大橋工程這事，在我這里可不是秘密；
前不久的會議上我們才聊起過這件事情，民政李部說你方總心里可能有些許怨氣。”
方年：“……”