這套物鏡來自系統那大豬蹄子的饋贈，絕不是把三十多片打磨好的玻璃拼接起來那么簡單，除了精度，它還有著強大的功率補償機制，容錯機制。
也就是說，激光通過物鏡后，功率可以得到一定程度提升，精度方面，則可以做到無限接近完美的程度。
總之就是很牛逼很強大的意思，開了外掛的物鏡，效果杠杠的。
物鏡下面，就是測量臺和曝光臺了，老式光刻機需要先測量，再曝光，而這種雙工作臺系統，則可以實現一片硅片曝光同時，對另一片硅片進行測量和校準，工作效率提高一倍以上。
目前世界上，只有荷蘭asml掌握雙工作臺技術，長春這個機臺如果量產的話，將是世界第二名。
整套機臺最底部，是內部封閉框架和減振器，它們負責將工作臺與外部環境隔離，保持水平，減少外界振動干擾，并維持恒定的溫度和壓力。
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這一點極其重要，畢竟是制造高精密芯片，哪怕最微小的震動，一粒塵埃，或者空氣溫度和濕度的差別，都有可能導致硅片曝光失敗，或者前后兩批芯片的性能不一致。
一臺完整的光刻機，大體就是這樣了。
聽上去簡單，其實卻是人類歷史上最復雜最精密的機臺，沒有之一。
放眼全球，能做到紫外的，只有asml，佳能，尼康三家，而能做到極紫外的，則只有荷蘭asml，其余所有競爭對手，全部慘遭淘汰，消失在歷史的長河中。
“開始！”
長春光機所的所長叫杜維明，隨著他一聲令下，全封閉絕塵實驗室里，光刻機開始運行，大概也就十幾秒鐘過后，一片十二寸硅晶圓就被送下了機臺。
其實，光刻機工作速度是很快的，每小時出片兩百張以上，完全不存在任何問題。
制約產能的主要是沉積設備，PVD和CVD這類，其次是刻蝕設備包括ICP，CCP，DIE這幾種機臺，另外熱處理設備工作效率也十分感人。
一條月產能一萬片十二寸晶圓的fab制造線，光刻機或許只有四五臺，但刻蝕機，卻起碼要有六十臺起步，如果想要追求高效率，甚至要堆一百臺以上的刻蝕機。
目前，中微半導體的介質刻蝕技術，硅通孔刻蝕技術，位列全球前三，全球最牛的半導體代工廠臺積電，生產線上就有成百上千臺來自中微的刻蝕機，算是國產半導體行業里比較爭氣的存在。
“成了！”
“一次出片成功，比我預想的還要順利！”
“不愧是昆侖集團啊，臨時加進來的光學系統，竟然和舊機臺配合的這么好！”
實驗室里，穿著全套無塵服的工程師，取下十二寸硅晶圓，仔細看，會發現上面出現了密密麻麻，無比繁雜的線條，燈光下亮晶晶的，甚是喜人。