在研究所一直呆到了傍晚，晚上周宏邀請了李秀成和胡英梅去家里吃飯。
兩個兒子都在外地上班，家里就老兩口。
老太太很好客，尤其是知道李秀成是周宏的老板更是熱情無比，拿出看家的本事整了滿滿當當的一桌子菜。
到餐末時，李秀成說道：“明天我就不去研究所了，我和胡會計到北京玩兩天然后就直接飛興蓉。
研究所這邊還得要周教授您多費心，把好關。”
周宏一拍胸口，嚴肅道：“放心吧李總，只要我這把老骨頭還立得起來，就不會讓研究停下來。”
“嗯。我相信周教授！”李秀成微笑著點頭，他對老前輩的道德品格是相當信任的，不過也是時候談一談光刻機的發展線路問題了。
現在研究的是老舊的干式微影光刻機，但未來是浸入式光刻機的天下，要怎么才能讓老前輩接受這個觀點呢？
這就要好好琢磨琢磨下了。
吃完飯，胡英梅幫著老太太去收拾碗筷。兩人坐回到沙發上喝茶解膩。
李秀成斟酌著說道：“我有一個問題想要請教周教授。”
“光刻機的？有什么問題你盡管問。”周宏就是欣賞李秀成這一點，有什么不懂的也不憋著。同樣，知道自己不懂，也不亂指揮人。
這樣大方明理又能放權的老板，可比以前那些外行指揮內行的領導要強太多了。
“我知道光刻機的涂膠原理其實跟相機膠片暴光差不多，最近我也一直在惡補這方面的知識。
我知道像光刻機的生產效率、良率以及最小分辨率均在不斷發展。
而光刻機的最小分辨率由一個公式R=kλ/NA控制。
其中R代表可分辨的最小尺寸也就是我們追求的精度，那么肯定就是R越小越好，k是工藝常數代表我們的工藝技術,λ.....λ...。
λ是什么來著？”
說到這里，李秀成像是卡了殼，撓著腮幫子說道。
周宏一臉好為人師的表情笑道：“λ是光刻機所用光源的波長，我們現在研究的就是G線光刻機，波長346NM。
NA代表物鏡數值孔徑這個東西也就是關鍵的暴光系統。
這也是最難的東西，我們現在造的都是落后別人十年的參數產品。
反正，光刻機制程工藝水平的發展是一直遵循你說這個公式的。
現在米國的最新型光刻機已經可以生產800NM制程的芯片，我們卻還在1200nm徘徊，還差得遠啰！”
說到最后，周宏反而一臉失落，也沒了開始的興致。
“哦，真復雜！”李秀成做出一臉我很懵的表情，然后話鋒一轉道：“但我大致抓到了兩個重點，光源、物鏡折射率！
想要提升芯片的生產效率和良率，是必須要同時發展光刻機的內部構造和工作模式。
那么我們可以從整體因素考慮，為什么不換一種光源，然后再換一種折射介質？”
“嗯？”周宏回過神來，有些奇怪的說道：“現在光線就G線和I線兩種，波長在三百多到四百左右，確實比較大，而且國際上的公同認知是在193nm縮短到157nm制程時會出現瓶頸。
但折射介質是什么說法？”
見周宏來了興趣，李秀成嘴角微勾然后迅速恢復原狀。
這也就是現在的干式微影光刻機和浸沒式光刻機的最大區別了！
他故意做出一臉不確定的說道：“光線我覺得可以多做試驗，把什么XYZ射線啊，紫外線，極光都試試，總能找到最合適的。
至于折射率嘛，現在的光刻機光波是在空氣中傳播，然后照射暴光。